• 专利附录
  • 专利说明
  • 权利要求
  • 类似技术
  • 同族专利
  • 引用文献
  • 法律状态
  • 优先权
    • 专利摘要:
    本發明提供一種硬塗膜，其層構造簡單而鉛筆硬度高(3H以上)，且具有加工適應性，並且透射清晰度優異，適合作為各種顯示裝置、觸控面板等之電子設備的構件。其係在透明基材薄膜的一面，使包含3~6官能單體和有機修飾矽石微粒的硬塗層形成材料硬化而成之具有厚度7~14μm的硬塗層，該硬塗層形成材料係以35~65質量%的比例含有有機修飾矽石微粒，作為在固形物中的無機成分，其特徵為，(1)依照JIS B 0601-1994而測定之前述硬塗層表面的算術平均粗糙度Ra為0.008μm以下，(2)依照JIS B 0601-1994測定之與前述透明基材薄膜的硬塗層相反側的面的算術平均粗糙度Ra為0.01~0.05μm，(3)針對5種狹縫(狹縫寬度：0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm及2mm)依照JIS K 7374：2007而測定，以藉由透射法的像清晰度的合計值表示之透射像清晰度為450以上。
    公开号:TW201307059A
    申请号:TW101128866
    申请日:2012-08-10
    公开日:2013-02-16
    发明作者:Yuki Hongo；Yutaka Ejima；Kenji Nasu
    申请人:Lintec Corp；
    IPC主号:B32B27-00
    专利说明:
    硬塗膜
    本發明係關於硬塗膜，更詳細地係關於鉛筆硬度高(3H以上)、且具有加工適應性、並且透射像清晰度優異、適合作為各種顯示裝置或觸控面板等電子設備的構件之硬塗膜。
    硬塗膜主要用於顯示器表面，但是近年越來越廣泛用於觸控面板等之移動機器。觸控面板用的顯示器係被要求與一般的顯示器不同之要求性能。特別是，由於時常攜帶並且接觸硬塗表面而操作，因此強烈期望提高表面硬度。提高表面硬度的技術係從過去就多有探討。例如在專利文獻1、2的手法，係以在硬塗層的底層設置緩衝層或低硬度的硬塗層，而實現高的鉛筆硬度。但是，由於此手法係形成多層結構，因此干涉條紋等外觀缺點的產生或製造成本的提高令人擔憂。另外，僅以加厚硬塗層也可獲得高的鉛筆硬度，但是在此情況會產生彎曲性降低或、裁剪加工適應性或衝壓加工適應性降低的問題。 先前技術文獻 專利文獻
    專利文獻1 日本特開平11-300873號公報
    專利文獻2 日本特開2007-219013號公報
    本發明係在如此狀況下被進行者，其係以提供層結構簡單而鉛筆硬度高(3H以上)、且具有加工適應性、並且透射像清晰度優異、適合作為各種顯示器裝置或觸控面板等之電子設備的構件之硬塗薄膜作為目的。
    本發明人等為了實現前述目的而反復進行了深入研究的結果，獲得了下述的見解。硬塗膜的鉛筆硬度係依照JIS K 5600-5-4，藉由鉛筆劃痕硬度試驗機而測定。在此情況，使硬塗膜如其基材側接觸於玻璃等的硬質材料面，而載置，一邊對鉛筆劃痕構件施加規定的荷重，一邊使該構件傾斜為45度，以1mm/秒的速度進行將硬塗層面劃痕的操作。
    此時發現了，若硬質材料面與硬塗膜的基材面密接而該薄膜沒有撓曲，則前述劃痕構件的荷重迎面施加於硬塗層面，鉛筆硬度降低，另一方面，若硬塗膜不密接於硬質材料面而具有撓曲，則鉛筆硬度提高。
    本發明人等基於前述見解而進一步進行研究之結果，發現了在透明基材薄膜的一面，使特定的組成的硬塗層形成材料硬化，形成具有表面的算術平均粗糙度Ra為0.008μm以下之規定的厚度之硬塗層，並且藉由將與透明基材薄膜的該硬塗層相反側之表面的算術平均粗糙度Ra設定為特定的範圍，而可獲得具有高透射像清晰度、且鉛筆硬度為3H以上的硬塗膜。
    本發明係基於這些見解而完成。
    即，本發明係提供如下發明：[1]一種硬塗膜，其係在透明基材薄膜的一面具有厚度7~14μm的硬塗層，該硬塗層係通過使包含3~6官能單體和有機修飾矽石微粒的硬塗層形成材料硬化而成，該硬塗層形成材料中，係以35~65質量%的比例含有，有機修飾矽石微粒作為在固形物中的無機成分，該硬塗膜之特徵為(1)依照JIS B 0601-1994測定之前述硬塗層表面的算術平均粗糙度Ra為0.008μm以下，(2)依照JIS B 0601-1994測定之與前述透明基材薄膜的硬塗層相反側的面的算術平均粗糙度Ra為0.01~0.05μm，(3)針對5種狹縫(狹縫寬度：0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm)之依照JIS K 7374：2007而測定，以藉由透射法的像清晰度的合計值表示之透射像清晰度為450以上；[2]如上述[1]項之硬塗膜，其中，3~6官能單體為(甲基)丙烯酸酯類單體；[3]如上述[1]或[2]項之硬塗膜，其中，依照JIS K 7136測定的霧度值為2%以下；[4]如上述[1]~[3]項中任一項之硬塗膜，其係用作為觸控面板用構件；以及[5]如上述[4]項之硬塗膜，其中，觸控面板係電阻膜式。
    根據本發明，可提供一種硬塗膜，其層結構簡單而鉛筆硬度高(3H以上)、且具有加工適應性、並且透射像清晰度優異、適合作為各種顯示器裝置或觸控面板等之電子設備的構件。
    本發明的硬塗膜係在透明基材薄膜的一面，使包含3~6官能單體和有機修飾矽石微粒的硬塗層形成材料硬化而成之具有厚度7~14μm的硬塗層，該硬塗層形成材料係以35~65質量%的比例含有有機修飾矽石微粒作為在固形物中的無機成分，其特徵為，依照JIS B 0601-1994而測定之前述硬塗層表面的算術平均粗糙度Ra為0.008μm以下，依照JIS B 0601-1994測定之與前述透明基材薄膜的硬塗層相反側的面的算術平均粗糙度Ra為0.01~0.05μm，針對5種狹縫(狹縫寬度：0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm及2mm)依照JIS K 7374：2007而測定，以藉由透射法的像清晰度的合計值表示之透射像清晰度為450以上。 [透明基材薄膜]
    本發明的硬塗膜中使用的透明基材薄膜沒有特別限制，可從以往作為光學用硬塗膜的基材而公知的塑膠薄膜之中適當選擇而使用。作為這樣的塑膠薄膜，例如可列舉出聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等之聚酯薄膜，聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、賽璐玢、二乙醯纖維素薄膜、三乙醯纖維素薄膜、醋酸丁酸纖維素薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏二氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚碸薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚醚碸薄膜、聚醚醯亞胺薄膜、聚醯亞胺薄膜、氟樹脂薄膜、聚醯胺薄膜、丙烯酸類樹脂薄膜、降冰片烯類樹脂薄膜降冰片烯類樹脂薄膜、環烯烴樹脂薄膜等塑膠薄膜。
    這些塑膠薄膜可被著色，也可為無著色者，根據用途來適當選擇即可。例如用作液晶顯示體的保護用途的情況，係適宜為無色透明的薄膜。
    這些塑膠薄膜的厚度沒有特別限制，可根據情況適當選定，通常為15~300μm，較佳為30~200μm的範圍。另外，關於該塑膠薄膜，以提高與設置於其表面之層的密接性之目的，可依照期望藉由氧化法或凹凸化法等對單面或雙面實施表面處理。作為上述氧化法，例如可列舉出電暈放電處理、電漿處理、鉻酸處理(濕式)、熱風處理、臭氧．紫外線照射處理等，另外，作為凹凸化法，例如可列舉出噴砂法、溶劑處理法等。這些表面處理法可依照塑膠薄膜的種類來適當選擇，一般從效果以及操作性等的方面來看，較佳使用電暈放電處理法。另外，也可在硬塗層形成面上設置底漆層。 [硬塗層形成材料]
    本發明的硬塗膜中，在前述的透明基材薄膜的一面設置有使硬塗層形成材料硬化而成的硬塗層。
    該硬塗層形成材料包含3~6官能單體和有機修飾矽石微粒作為必要成分。 (3~6官能單體)
    在本發明中，3~6官能單體係指在分子內具有3~6個乙烯性不飽和基，藉由照射活性能量射線而交聯、硬化的單體化合物，較佳使用(甲基)丙烯酸酯類單體。
    又，活性能量射線是指電磁波或帶電粒子線之中具有能量量子(energy quantum)者，亦即係指紫外線或電子射線等。
    另外，(甲基)丙烯酸酯類單體是指丙烯酸酯類單體及甲基丙烯酸酯類單體之二者。以下，類似用語也相同。
    作為3~6官能(甲基)丙烯酸酯類單體，例如可列舉參(2-丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯、參(3-丙烯醯氧基丙基)異三聚氰酸酯、參(2-甲基丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯、參(3-甲基丙烯醯氧基丙基)異三聚氰酸酯等之參[(甲基)丙烯醯氧基烷基]異三聚氰酸酯，以及三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改質二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、丙酸改質二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸酯。此等係可單獨使用1種，也可組合使用兩種以上。此等之中，較佳為3~4官能(甲基)丙烯酸酯類單體。 (有機修飾矽石微粒)
    該硬塗層形成材料中，用作為必要成分的有機修飾矽石微粒，係指以具有聚合性不飽和基的有機化合物表面修飾的之矽石微粒。
    上述以具有聚合性不飽和基的有機化合物表面修飾之矽石微粒，例如通常可藉由對平均粒徑通常為0.5~500nm左右、較佳為平均粒徑1~100nm的之矽石微粒表面的矽烷醇基，使與含聚合性不飽和基的有機化合物反應而獲得，該含聚合性不飽和基的有機化合物，係具有可與該矽烷醇基反應的之官能基的(甲基)丙烯醯基。
    作為前述具有可與矽烷醇基反應之官能基的含聚合性不飽和基的有機化合物，例如較佳使用以通式(1)表示的化合物等，
    (式中，R1為氫原子或甲基，R2為鹵素原子或以-OCH2CH2NCO、、-OCH2CH2OH、-OH、-O(CH2)3-Si(OCH3)3所示的基。)。
    作為這樣的化合物，例如可使用丙烯酸、丙烯醯氯、丙烯酸-2-異氰酸酯基乙酯、丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸2,3-亞胺基丙酯、丙烯酸2-羥乙酯、丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等以及此等之丙烯酸衍生物對應的甲基丙烯酸衍生物。這些丙烯酸衍生物或甲基丙烯酸衍生物係可單獨使用，也可組合兩種以上使用。
    作為包含此般在矽石微粒使具有聚合性不飽和基的有機化合物結合而成之化合物的活性能量射線感應型組合物，例如上市有JSR Corporation製之商品名“Opstar Z7530”、“Opstar Z7524”、“Opstar TU4086”等。
    在本發明中，用該這個以具有聚合性不飽和基團的有機化合物進行了表面修飾的之矽石微粒，作為無機成分，必須以35~65質量%的比例含有在該硬塗層形成材料的固形物中，較佳以38~62質量%的比例含有。如果前述有機修飾矽石微粒的含量在上述範圍，那麼可將硬塗層表面的算術平均粗糙度Ra保持在0.008μm以下，並且有助於該硬塗層的鉛筆硬度增大。
    又，該具有聚合性不飽和基的有機化合物表面修飾之矽石微粒的一次平均粒徑，係可藉由庫爾特粒子計數法(Coulter counter method)測定。該有機修飾矽石微粒藉由照射活性能量射線，與前述的3~6官能單體一同交聯、硬化。 ((甲基)丙烯酸酯類預聚物)
    該硬塗層形成材料中，在不損害本發明之效果的範圍，可與前述的3~6官能單體以及有機修飾矽石微粒一同含有(甲基)丙烯酸酯類預聚物。
    作為該(甲基)丙烯酸酯類預聚物，例如可列舉出聚酯丙烯酸酯類、環氧丙烯酸酯類、胺甲酸乙酯丙烯酸酯類、多元醇丙烯酸酯類等。此處，作為聚酯丙烯酸酯類預聚物，例如可藉由將由多元羧酸與多元醇縮合而獲得之在兩末端具有羥基的聚酯低聚物的羥基，以(甲基)丙烯酸酯化，或者藉由將在多元羧酸中加成環氧烷而獲得之低聚物的末端的羥基，以(甲基)丙烯酸酯化而獲得。
    環氧丙烯酸酯類預聚物，例如可藉由在較低分子量的雙酚型環氧樹脂或酚醛清漆型環氧樹脂的環氧乙烷環，使(甲基)丙烯酸反應、酯化而獲得。胺甲酸乙酯丙烯酸酯類預聚物，例如可藉由將胺甲酸乙酯氨酯低聚物以(甲基)丙烯酸酯化而獲得，該聚胺甲酸乙酯氨酯低聚物係藉由聚醚多元醇或聚酯多元醇與多異氰酸酯的反應獲得。進一步，多元醇丙烯酸酯類預聚物，可藉由將聚醚多元醇的羥基以(甲基)丙烯酸酯化而獲得。這些預聚物可使用1種，也可組合兩種以上使用。 (光聚合引發劑)
    較佳該硬塗層形成材料中，可依照期望含有光聚合引發劑。作為該光聚合引發劑，例如可列舉出苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻正丁基醚、苯偶姻異丁基醚、苯乙酮、二甲基胺基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎福林-丙-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2(羥基-2-丙基)酮、二苯甲酮、對苯基二苯甲酮、4,4’-二乙基氨基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-三級丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-甲基噻噸酮、2-乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、苯偶醯二甲基縮酮、苯乙酮二甲基縮酮、對二甲基氨基苯甲酸酯等。
    此等係可使用1種，也可組合兩種以上使用，另外，其含量係相對於100質量份全活性能量射線硬化型化合物的固形物，通常在0.2~10質量份的範圍選擇。 (硬塗層形成材料的製備)
    該硬塗層形成材料，可依照需要，藉由將前述的3~6官能單體、有機修飾矽石微粒、以及根據期望而使用的(甲基)丙烯酸酯類預聚物或光聚合引發劑、以及各種添加成分，例如抗氧化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、抗靜電劑、光安定劑、均平劑、消泡劑等，分別以規定比例加入、溶解或分散在適當的溶劑中而製備。
    作為此時使用的溶劑，例如可列舉出己烷、庚烷等之脂肪族烴，甲苯、二甲苯等之芳香族烴，二氯甲烷、二氯乙烷等之鹵化烴，甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等醇，丙酮、甲乙酮、2-戊酮、異佛酮、環己酮等酮，乙酸乙酯、乙酸丁酯等之酯，乙基溶纖素等之溶纖素類溶劑，丙二醇單甲醚等之醚類溶劑等。
    作為如此而製備之硬塗層形成材料的濃度、粘度，係只要是可塗布之物即可，沒有特別限制，可依照情況適當選定。 [硬塗層的形成]
    藉由在前述的透明基材薄膜的一面，使用以往公知的方法例如棒塗布法、刮刀塗布法、輥塗法、刮板塗布法、模塗法、凹版塗布法等，塗布前述硬塗層形成材料而形成塗膜，乾燥後，對此照射活性能量射線使該塗膜硬化，而形成硬塗層。
    作為活性能量射線，例如可列舉出紫外線或電子射線等。上述紫外線由高壓水銀燈、無電極燈、金屬鹵化物燈、氙氣燈等獲得，照射量通常為100~500mJ/cm2，另一方面電子射線係藉由電子射線加速器等而獲得，照射量通常為150~350kV。在此活性能量射線之中，較佳紫外線係特別適宜。又，使用電子射線的情況，係可無需添加光聚合引發劑，而獲得硬化膜。 [硬塗層的性狀]
    如此而形成之硬塗層，厚度必須在7~14μm的範圍。該厚度不足7μm，則無法獲得充分的鉛筆硬度，另一方面若超過14μm，則產生彎曲性降低、裁剪加工適應性或衝壓加工適應性降低的問題。厚度更較佳為8~13μm。
    另外，硬塗層表面依照JIS B 0601-1994測定的算術平均粗糙度Ra，必須為0.008μm以下。若該Ra超過0.008μm，則無法使後述的透射像清晰度為450以上，清晰感受損。 [硬塗膜的性狀]
    在透明基材薄膜的一面，具有如前述而形成之硬塗層的本發明之硬塗膜具有以下所示性狀。前述基材薄膜的硬塗層側之相反側的面依照JIS B 0601-1994測定的算術平均粗糙度Ra，必須在0.01~0.05μm的範圍。該Ra不足0.01μm，則在鉛筆劃痕試驗中，無法緩和作用於硬塗層表面的力，鉛筆硬度降低，另一方面若超過0.05μm，則後述的透射像清晰度會不到450，無法獲得清晰感。又，該Ra的調整也可藉由在透明基材薄膜直接設置凹凸而進行，或者也可與前述之硬塗層的形成同樣、藉由形成表面的Ra如在前述範圍之塗膜層(硬塗層)而進行。
    進一步，依照JIS K 7374：2007測定之針對5種狹縫(狹縫寬度：0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm)，以藉由透射法的像清晰度之合計值表示的透射像清晰度，必須為450以上。若此透射鮮像明度不到450，則無法獲得充分的清晰感，用於各種顯示器裝置或觸控面板等電子設備的情況，可視性會不充分。
    另外，從前述可視性的觀點來看，依照JIS K 7136測定的霧度值較佳為2%以下。
    在本發明的硬塗膜，依照JIS K 5600-5-4，藉由鉛筆劃痕硬度試驗機，以劃痕速度1mm/秒測定的硬塗層的鉛筆硬度，係可為3H以上。 [硬塗膜的用途]
    具有前述的性狀之本發明的硬塗膜，係用作為各種顯示器裝置或觸控面板等電子設備用構件，但是特別適合用作為觸控面板用構件。
    作為觸控面板，有電阻膜式、電容式、電磁感應式、紅外線式等，本發明的硬塗膜可適用於任一者，但是此等之中特別較佳將本發明的硬塗膜適用於電阻膜式。 實施例
    接著，藉由實施例進一步詳細說明本發明，但本發明不受這些例子的任何限定。
    又，各例中的諸特性係按照下述的方法而求出。 (1)表面的算術平均粗糙度Ra
    按照JIS B 0601-1994使用接觸式表面粗糙度計[Mitutoyo公司製，“SV3000S4”]測定。 (2)膜厚
    按照JIS K 7130，利用厚度計[Nikon公司製，MH-15”]測定。 (3)全光線透射率
    按照JIS K 7361-1(1997)，使用霧度計[日本電色公司製，“NDH-2000”]測定。 (4)霧度值
    按照JIS K 7136(2000)，使用霧度計[日本電色公司製，“NDH-2000”]測定。 (5)鉛筆硬度
    按照JIS K 5600-5-4，使用鉛筆劃痕硬度試驗機[安田精機製作所公司製，“No.553-M”]測定。使劃痕速度為1mm/秒。 (6)耐擦傷性
    使用鋼絲絨# 0000，以200g/cm2(1.96N/cm2)荷重而往復5次摩擦50mm，其後以目視確認有無損傷。○：沒有損傷，×：有損傷。 (7)透射像清晰度
    將依照JIS K 7374：2007測定的、針對5種狹縫(狹縫寬度：0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm)之藉由透射法的像清晰度之合計值，使用圖像清晰度試驗機[Suga Test Instruments Co.，Ltd.製，“ICM-1T”]算出，並作為透射像清晰度。合計值為450以上的情況，清晰感充分，使作為合格。 (8)裁剪加工適應性
    使用連續自動切斷機[荻野精機製作所公司製，製品名“PN1-600”]將硬塗膜直線狀裁剪，確認硬塗層有無破裂。○：沒有破裂，×：有破裂。 製備例1 硬塗塗布液1的製備
    用丙二醇單甲醚，將有機修飾矽石微粒與多官能丙烯酸酯的混合物[JSR公司製，“Opstar Z7530”、濃度73質量%、無機成分60%、含光聚合引發劑]100品質份、均平劑[BYK-Chemie Japan公司製，“BYK-300”、濃度52質量%]0.1品質份的混合物稀釋，製備了濃度40質量%的硬塗塗布液1(固形物中的無機成分60.0質量%)。 製備例2 硬塗塗布液2的製備
    用丙二醇單甲醚，將有機修飾矽石微粒與多官能丙烯酸酯的混合物[JSR公司製，“Opstar Z7530”、濃度73質量%、無機成分60%、含光聚合引發劑]100品質份、多官能丙烯酸酯(季戊四醇三丙烯酸酯、濃度100%)34品質份、光聚合引發劑(1-羥基環己基苯基酮)1.8品質份、流平劑[BYK-Chemie Japan公司製，“BYK-300”、濃度52質量%]0.1品質份的混合物稀釋，製備了濃度40質量%的硬塗塗布液2(固形物中的無機成分40.9質量%)。 製備例3 硬塗塗布液3的製備
    用丙二醇單甲醚，將有機修飾矽石微粒與多官能丙烯酸酯的混合物[JSR公司製，“Opstar Z7530”、濃度73質量%、無機成分60%、含光聚合引發劑]100品質份、多官能丙烯酸酯(季戊四醇三丙烯酸酯、濃度100%)111質量份、光聚合引發劑(1-羥基環己基苯基酮)5.8質量份、均平劑[BYK-Chemie Japan公司製，“BYK-300”、濃度52質量%]0.2質量份的混合物稀釋，製備了濃度40質量%的硬塗塗布液3(固形物中的無機成分23.8質量%)。 製備例4 硬塗塗布液4的製備
    用丙二醇單甲醚，將多官能丙烯酸酯與聚氨酯丙烯酸酯的混合物[荒川化學工業公司製，“Beamset 575CB”、濃度100%、無機成分0%、含光聚合引發劑]100質量份、均平劑[BYK-Chemie Japan公司製，“BYK-300”、濃度52質量%]0.1質量份的混合物稀釋，製備了濃度40質量%的硬塗塗布液4(固形物中的無機成分0%)。 製備例5 硬塗塗布液5的製備
    用丙二醇單甲醚將有機修飾矽石微粒與多官能丙烯酸酯的混合物[JSR公司製，“Opstar Z7530”、濃度73質量%、無機成分60%、含光聚合引發劑]100質量份、矽石珠[Momentive Performance Materials公司製，製品名“Tospearl 145”、平均粒徑4.5μm、濃度100%]0.15質量份、均平劑[BYK-Chemie Japan公司製，“BYK-300”、濃度52質量%]0.1質量份的混合物稀釋，製備了濃度40質量%的硬塗塗布液5(固形物中的無機成分60.2質量%)。 製備例6 硬塗塗布液6的製備
    用丙二醇單甲醚，將聚氨酯丙烯酸酯與多官能丙烯酸酯的混合物[荒川化學工業公司製，“Beamset 575CB”、濃度100%、含光聚合引發劑]100質量份、分散有矽石微粒的紫外線硬化型樹脂[大日精化工業公司製，製品名“Seikabeam EXF-01L(BS)”、矽石微粒含量10質量%、平均粒徑4.7μm、濃度100%、含光聚合引發劑]2質量份、均平劑[BYK-Chemie Japan公司製，“BYK-300”、濃度52質量%]0.1質量份的混合物稀釋，製備了濃度40質量%的硬塗塗布液6(固形物中的無機成分0.2質量%)。 實施例1
    在附雙面易粘接層的PET薄膜[三菱樹脂公司製，“PET188O321”、膜厚1188μm]，用邁耶棒(mayer bar)# 16使乾燥後的膜厚成為如8μm而塗布硬塗塗布液1，在80℃乾燥1分鐘後，照射紫外線(光量：200mJ/cm2)，使硬化而形成硬塗層，獲得了實施例1的硬塗膜。 實施例2
    除了於實施例1中，使用硬塗塗布液2以外，使與實施例1同樣而獲得了實施例2的硬塗膜。 實施例3
    除了用邁耶棒# 24使乾燥後的膜厚成為如13μm而塗布以外，使與實施例1同樣而獲得了實施例3的硬塗膜。 實施例4
    除了使用附雙面易粘接層的PET薄膜[三菱樹脂公司製，“PET125O321”、膜厚1125μm]以外，使與實施例1同樣而獲得了實施例4的硬塗膜。 實施例5
    於實施例1中，在與硬塗膜1的硬塗層側之相反側的面，用邁耶棒# 8使乾燥後的膜厚成為如3.5μm而塗布硬塗塗布液5，在80℃乾燥1分鐘後，照射紫外線(光量：200mJ/cm2)，使硬化而形成硬塗層，獲得了實施例5的硬塗膜。 比較例1
    除了使用硬塗塗布液3以外，使與實施例1同樣而獲得了比較例1的硬塗膜。 比較例2
    除了使用附雙面易粘接層的PET薄膜[東洋紡織公司製，“PET188A4300”、膜厚188μm]以外，使與實施例1同樣而獲得了比較例2的硬塗膜。 比較例3
    於實施例1中，在與硬塗膜1的硬塗層側的相反側的面，用邁耶棒# 10使乾燥後的膜厚成為如5.0μm而塗布硬塗塗布液6，在80℃乾燥1分鐘後，照射紫外線(光量：200mJ/cm2)，使硬化而形成硬塗層，獲得了比較例3的硬塗膜。 比較例4
    除了使用了硬塗塗布液4以外，使與實施例1同樣而獲得了比較例4的硬塗膜。 比較例5
    除了使用硬塗塗布液4，用邁耶棒# 24使乾燥後的膜厚成為如13μm而塗布以外，使與實施例1同樣而獲得了比較例5的硬塗膜。
    評價有關於前述的實施例1~5和比較例1~5所獲得的各硬塗膜的諸特性。將其結果與硬塗膜製作條件一同表示於表1。
    如從表1可知，本發明的硬塗膜(實施例1~5)，係任一者之全光線透射率都超過90%、且霧度值不足2%，並且鉛筆硬度為3H以上，耐擦傷性合格，透射像清晰度也超過450、為合格。進一步裁剪加工適應性也良好。
    相對於此，比較例1~5的硬塗膜，相較於實施例，鉛筆硬度及/或透射像清晰度惡劣。且比較例5沒有裁剪加工適應性。 產業上的可利用性
    本發明的硬塗膜的鉛筆硬度高(3H以上)、且具有加工適應性、並且透射像清晰度優異、適合用於作為各種顯示器裝置或觸控面板等電子設備的構件，特別適合用於作為電阻膜式觸控面板的構件。
    权利要求:
    Claims (7)
    [1] 一種硬塗膜，其係在透明基材薄膜的一面具有厚度7~14μm的硬塗層，該硬塗層係通過使包含3~6官能單體和有機修飾矽石微粒的硬塗層形成材料硬化而成，該硬塗層形成材料中，係以35~65質量%的比例含有，有機修飾矽石微粒作為在固形物中的無機成分，該硬塗膜之特徵為(1)依照JIS B 0601-1994測定之前述硬塗層表面的算術平均粗糙度Ra為0.008μm以下，(2)依照JIS B 0601-1994測定之與前述透明基材薄膜的硬塗層相反側的面的算術平均粗糙度Ra為0.01~0.05μm，(3)針對5種狹縫(狹縫寬度：0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm)之依照JIS K 7374：2007而測定，以藉由透射法的像清晰度的合計值表示之透射像清晰度為450以上。
    [2] 如申請專利範圍第1項之硬塗膜，其中，3~6官能單體為(甲基)丙烯酸酯類單體。
    [3] 如申請專利範圍第1或2項之硬塗膜，其中，依照JIS K 7136測定的霧度值為2%以下。
    [4] 如申請專利範圍第1或2項之硬塗膜，其係用作為觸控面板用構件。
    [5] 如申請專利範圍第3項之硬塗膜，其係用作為觸控面板用構件。
    [6] 如申請專利範圍第4項之硬塗膜，其中，觸控面板係電阻膜式。
    [7] 如申請專利範圍第5項之硬塗膜，其中，觸控面板係電阻膜式。
    类似技术:
    公开号 | 公开日 | 专利标题
    TWI534001B|2016-05-21|硬塗膜
    JP6155334B2|2017-06-28|積層ハードコーティングフィルム
    TWI500669B|2015-09-21|硬塗膜
    TWI453474B|2014-09-21|防眩性硬被覆膜及使用它之偏光板
    TWI608935B|2017-12-21|塑膠膜疊層板
    JP6133426B2|2017-05-24|ハードコーティングフィルム
    JP4746863B2|2011-08-10|防眩性ハードコート層形成用材料及び防眩性ハードコートフィルム
    JP4135364B2|2008-08-20|光学フィルムの製造方法
    TWI489130B|2015-06-21|防眩性硬被覆膜及使用它之偏光板
    JP2009029126A|2009-02-12|ハードコートフィルム及びその製造方法
    JP2013100413A|2013-05-23|紫外線硬化型樹脂組成物、硬化物及び物品
    JP2001205179A|2001-07-31|ハードコートフィルムの製造方法及びその方法を用いて得られるハードコートフィルム
    JP2008216330A|2008-09-18|防眩性ハードコートフィルム
    JP5047636B2|2012-10-10|ハードコートフィルム
    JP2001113648A|2001-04-24|放射線硬化型樹脂組成物の硬化皮膜を有するフィルム
    JP2010266658A|2010-11-25|反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板
    JP6118939B2|2017-04-19|ニュートンリング防止シート及びその製造方法
    JP5728191B2|2015-06-03|ハードコート層表面形成用フィルム、ハードコート層付き光学部材の製造方法、及びハードコート層付き光学部材
    TWI606932B|2017-12-01|高硬度膜
    JP5628617B2|2014-11-19|ハードコート層付き光学部材の製造方法、ハードコート層表面形成用フィルム、及びハードコート層付き光学部材
    JP6118499B2|2017-04-19|ニュートンリング防止シート
    WO2021033483A1|2021-02-25|防眩性積層体
    JP6124379B2|2017-05-10|紫外線硬化型樹脂組成物、硬化物及び物品
    CN113614585A|2021-11-05|防眩性叠层体
    JP2001226413A|2001-08-21|放射線硬化型帯電防止性樹脂組成物
    同族专利:
    公开号 | 公开日
    CN102950846B|2016-03-30|
    JP2013037323A|2013-02-21|
    KR102008525B1|2019-08-07|
    TWI534001B|2016-05-21|
    CN102950846A|2013-03-06|
    KR20130018117A|2013-02-20|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    JP4155651B2|1998-02-18|2008-09-24|大日本印刷株式会社|ハードコートフィルム|
    JP4737915B2|2002-10-30|2011-08-03|株式会社きもと|タッチパネルの製造方法及びタッチパネル|
    JP4266623B2|2002-11-29|2009-05-20|リンテック株式会社|ハードコートフィルム|
    JP2007219013A|2006-02-14|2007-08-30|Toppan Printing Co Ltd|ハードコートフィルム|
    JP5008059B2|2006-04-26|2012-08-22|日東電工株式会社|防眩性ハードコートフィルム、偏光板、画像表示装置および防眩性ハードコートフィルムの製造方法|
    CN101522767B|2006-10-06|2012-08-22|东丽株式会社|硬涂膜、其制造方法及防反射膜|
    TWI607231B|2007-07-04|2017-12-01|琳得科股份有限公司|硬被覆膜|
    JP5313728B2|2009-03-12|2013-10-09|リンテック株式会社|光学フィルム|
    JP5414324B2|2009-03-29|2014-02-12|株式会社日本触媒|防眩性積層体|
    JP2011098529A|2009-11-07|2011-05-19|Mitsubishi Plastics Inc|ハードコートフィルム|CN105264407B|2013-07-05|2018-01-02|大日本印刷株式会社|防眩膜、偏振片、液晶面板和图像显示装置|
    JP6258012B2|2013-11-15|2018-01-10|リンテック株式会社|ハードコートフィルム、透明導電性フィルムおよび静電容量タッチパネル|
    CN107153478A|2013-11-20|2017-09-12|大日本印刷株式会社|导电性膜、硬涂膜和触控面板传感器|
    JP6563228B2|2015-03-30|2019-08-21|リンテック株式会社|透明導電性フィルム|
    CN107124900A|2015-12-25|2017-09-01|松下知识产权经营株式会社|触摸面板和使用该触摸面板的显示装置|
    JP6462941B1|2018-05-28|2019-01-30|グンゼ株式会社|カバーフィルム|
    法律状态:
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
    JP2011175708A|JP2013037323A|2011-08-11|2011-08-11|ハードコートフィルム|
    [返回顶部]